Rupes LHR21 MarkII Big Foot

ATÉ 40% DE ECONOMIA DE TEMPO

O novo Big Foot polisher é uma excelente ferramenta que permite que você obtenha excelentes resultados em nenhum momento. MENOS passos, menos tempo, menos consumo e maiores lucros.

ECONOMIA DE ENERGIA DE 40%

Graças ao seu design e tecnologia, os novos polidores orbitais aleatórios por RUPES são mais energia eficiente em comparação aos tradicionais polidores.

SEM HOLOGRAMAS

Hologramas são micro arranhões feitos por tradicionais polidores: os novos polidores orbitais aleatórios não deixe hologramas e permitem excelentes resultados em uma única etapa.

FÁCIL DE USAR

Polimento sempre foi considerada uma operação que requer experiência e habilidade. Inexperiência de fato pode resultar em superfícies sendo danificadas e a exposição das bordas e cantos em ponto. RUPES eliminou estes riscos com seu novo polidor orbital aleatório que permite ainda menos experientes operadores alcançar resultados profissionais.

REVESTIMENTO SUPERIOR

O objetivo dos operadores sempre tem sido alcançar dois resultados: profundidade de brilho e cor. Ao projetar suas polidores, RUPES tomou em conta essas exigências para que os operadores possam alcançar resultados únicos e extraordinários.

MÁXIMO CONTROLE

Polidores RUPES destacam-se por causa de suas exatidão e facilidade de uso, que permitem obter resultados de alta qualidade com menos fadiga.

NENHUMA SUPERFÍCIE DE SUPERAQUECIMENTO

Temperatura superficial deve ser mantida dentro de limites específicos de segurança. O movimento orbital aleatório e características técnicas do novos polidores RUPES mantenham o superficial temperatura final limites aceitáveis dentro de eliminar o risco de "queimar" o verniz.

MAIOR ÁREA DE CONTATO

Os polidores de orbital aleatórios de novo RUPES habilitar para usar toda a superfície do buffer. Ao usar polidores rotativos tradicionais, é necessário manter o buffer inclinado em comparação com a superfície de trabalho devido as altas temperaturas que se desenvolvem no painel usinado, o que reduz a superfície útil do buffer para 40%.